Omega/Theta XRD Mapping面掃(sao)功能

Omega/Theta XRD Mapping面掃(sao)功能掃臺允許使用受控的網格模式來探索整個樣品表面。Omega/Theta XRD可以很容易地(di)在轉盤(pan)頂部容納額外(wai)的XY定位平臺。樣品表(biao)面可以根據用戶定義(yi)的網格進行掃描(miao)。由于樣品上X射線光(guang)斑的大小，小的網格間距約為1毫米。

繪圖(tu)階段可以與Omega掃描結合(he)起來，以獲(huo)得(de)晶體方(fang)向圖(tu)，或(huo)與搖擺曲線測量(liang)結合(he)起來，以獲(huo)得(de)表面的(de)扭曲圖(tu)。可提供用于(yu)顯示(shi)和分析(xi)的(de)軟(ruan)件包(bao)。

Omega/Theta XRD Mapping面掃功能

是(shi)診斷晶體生長過程(cheng)中和(he)制(zhi)造過程(cheng)中出現的質量問題的一個寶貴工(gong)具

即使在(zai)單晶中，晶體取向也(ye)可(ke)以(yi)在(zai)表面(mian)上表現(xian)出微小的(de)(de)變化，這是由晶格(ge)缺陷引起的(de)(de)內部(bu)應變造成(cheng)的(de)(de)。有(you)序生長(chang)的(de)(de)薄膜也(ye)可(ke)以(yi)有(you)一個有(you)趣的(de)(de)面(mian)內取向分(fen)布(bu)。

繪制(zhi)一(yi)個表面需要大量的測(ce)量。在這里，歐米茄掃描(miao)方法可以提供其(qi)速度方面的優勢(shi)。圖中顯示的是在一(yi)個（Si，Ge）固溶體(ti)晶片上測(ce)量的取向(xiang)圖。較大的方向(xiang)差是0.03°。同心圓是按(an)照晶體(ti)的生長環(huan)進行的。